10.10.2008 | Lesedauer: ca. 2 Minuten |
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![]() Mit der neuen Anlage DC-CNC 1150, welche die XL-Version der Standard-Dosierzelle DC-CNC darstellt, rundet das Unternehmen aus dem Schwarzwald sein Programm ab. Ziel der Entwicklung war die Konstruktion einer Dosierzelle mit vergrößertem Verfahrbereich und kompaktem Aufbau. Verfahrachsen, Materialaufbereitung und Dosiertechnik bilden daher eine kompakte Einheit. "Vor allem im Bereich der Vergusstechnik kommt es auf Flexibilität an. Vielfältige Materialien sind am Markt. Hinzu kommen Bauteile mit immer komplexeren Geometrien, die abgedichtet, vergossen oder verklebt werden müssen. "Die Kompaktdosieranlage verarbeitet die verschiedensten Materialien effizient. Für das Bauteilhandling können die verschiedensten Systeme integriert werden", erläutert Vertriebs- und Marketingleiter Hartmut Storz. Ob Epoxidharz, Polyurethan oder Silikon - mit der bahngesteuerten Zelle (Verfahrbereich X x Y x Z = 1.000x1.000x300 mm) kann der Anwender zwei bis vier Komponenten auf bis zu zwei Mischeinrichtungen verarbeiten. Vor allem die Möglichkeit der Paralleldosierung auf zwei Bandstrecken im Wechsel garantiere hohe Produktivität. Die gesamte Anlage wird durch eine innovative Steuerungstechnologie auf Basis der SINUMERIK 840D realisiert. Die nahe bei der Mischeinrichtung angeordneten Dosierpumpen versprechen Dosiergenauigkeit und -dynamik. Die DC-CNC 1150 kombiniert Misch- und Dosiersystem mit den Bewegungen der Linerachsen. Eine neue Generation Dosierpumpen, ausgerüstet mit abgedichteten Lagern und strömungsoptimiertem Materialfluss, sorgt für die äußerst präzise Dosierung. Aber auch an die einfache Wartung haben die Experten von RAMPF Dosiertechnik gedacht. Dafür und zum leichteren manuellen Nachfüllen müssen die Benutzer nur die Materialbehälter aus dem Maschinengestell herausziehen. FAKUMA 2008, Friedrichshafen, 14.-18. Oktober 2008, Halle B3, Stand 3208 |
RAMPF Dosiertechnik GmbH & Co. KG, Zimmern o. R.
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